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2020年全国标委会微光刻分技术委员会成立大会暨第十届微光刻技术交流大会在四川成都成功举办

11月9-10日,全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会成立大会暨第十届微光刻技术交流会在成都市隆重举行,本届会议由成都路维光电有限公司承办。来自全球半导体、集成电路微光刻相关的学术、科研、投资等各界精英代表近200人参会,聚焦全球半导体集成电路产业发展、前沿技术以及产业创新等热点,共同促进行业交流与协同创新。

微光刻分技术委员会成立大会暨第十届微光刻技术交流会开幕式由中国科学院理论物理研究所书记、研究员副所长;全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会主任冯稷主持。会上成都市高新区管委会副主任赵继东致欢迎词,成都高新区电子信息产业发展局副处长沈瀛致词并对成都电子信息产业功能区招商环境作了介绍;成都路维光电有限公司董事长兼总经理杜武兵代表承办方对此次前来参会的各位领导、专家、同仁表示热烈的欢迎。国家集成电路产业投资基金投资股份有限公司总裁、全国半导体设备和材料标准化技术委员会主任委员丁文武致词,向微光刻分技术委员会成立大会暨第十届微光刻技术交流会顺利召开表示热烈的祝贺。

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丁文武总裁致词

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杜武兵董事长致词

会上,丁文武总裁宣读国家标准管理委员会批文,为各位委员颁发证书并向各位资深顾问和专家颁发聘书。

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颁发证书、聘书

中国科学院微电子研究所研究员、全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会委员兼秘书长陈宝钦对微光刻分技术委员会十年的发展历程及国家标准制定情况作了汇报。

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陈宝钦秘书长汇报

本次会议齐聚微光刻领域的专家和技术人员,对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果等展开深入的交流与探讨,为微光刻业界提供了一个最新发展动态的交流平台。复旦大学、中科院微电子所、中科院上海应用物理所等9家单位代表为大家带来了精彩的专业报告,报告涵盖了微光刻技术、微光刻设备与材料技术等内容,与会代表们在会上分享了各自领域的最新进展及研究成果。对微光刻技术、微光刻设备和材料技术的发展趋势、最新研究成果及进展等展开深入的交流,共同探讨微光刻学界、业界前沿的重点、难点问题。

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在全国疫情防控常态化背景下,这次大会顺利举行来之不易。此次会议的召开为国内微光刻技术、光掩模制造技术、微纳米制造技术与半导体掩模制造设备等领域的生产企业、科研院所、高等院校及用户单位提供一个相互学习、交流的一个平台,共促行业发展。会后,参会代表参观了成都路维高世代光掩模版生产基地国内首条高世代G11 光掩模产线。路维光电是国内光掩模行业成立较早的企业之一,光掩模产品全面配套国内高世代、新型显示及半导体产业。经过23年的努力与沉淀,已发展为我国唯一全尺寸光掩模研发制造企业。成都路维超大尺寸超高精密光掩模产品已正式供货,我国显示面板用超大尺寸高精密光掩模版取得了阶段性的突破,加速推进新型显示上游关键材料国产化进程。

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专家领导莅临指导成都路维

下届微光刻会议将于2021年在中国科学院微电子研究所南京智能技术研究院举办,届时,微光刻界研究所、院校、企业将再次聚首南京,共谋产业发展大计。

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