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《平板显示器件掩模版有效面积规范》等三项国家标准讨论会在路维光电召开

 614日,由全国半导体设备和材料标准化委员会主办,路维光电承办的《平板显示器件掩模版有效面积规范》等三项国家标准讨论会(以下简称《标准》)在四川成都召开,全国半导体设备和材料标准化委员会领导及行业专家代表们共同探讨掩模版行业的相关规范和标准。

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会上,中国电子技术标准化研究院曹可慰先生对《标准》制订的指导原则和要求作了详细说明,并阐述了《标准》的重要性与紧迫性。成都路维光电有限公司总经理助理陈俊荣先生代表路维光电致欢迎辞,对与会者的到来表示热烈的欢迎。

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各位行业领导和专家对《平板显示器件掩模版有效面积规范》、《平板显示器掩模版缺陷术语》、《平板显示器掩模图形精度术语》三项标准的讨论稿进行了热烈讨论;对掩模版相关面积规范、术语等进行了规定。该《标准》的制定,对于提高掩模版行业的规范性有重大意义。编制组将根据会议讨论结果尽快开展相关工作,把重要意见和建议逐一落实在条文上,提高《标准》的操作性和实用性,进一步完善《标准》的质量。


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